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Journal Of Physics D-applied Physics

應(yīng)用物理學(xué)雜志
國(guó)際簡(jiǎn)稱:J PHYS D APPL PHYS

Journal Of Physics D-applied Physics

SCIE

按雜志級(jí)別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 3區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q2 JCR分區(qū)
  • 730 年發(fā)文量
  • 96.30% 研究類文章占比
  • 12.04% Gold OA文章占比
ISSN:0022-3727
創(chuàng)刊時(shí)間:1970
是否預(yù)警:否
E-ISSN:1361-6463
出版地區(qū):ENGLAND
是否OA:未開(kāi)放
出版語(yǔ)言:English
出版周期:Weekly
影響因子:3.1
出版商:IOP Publishing Ltd.
審稿周期: 約1.9個(gè)月
CiteScore:6.8
H-index:172
出版國(guó)人文章占比:0.32
開(kāi)源占比:0.0917
文章自引率:0.0882...

Journal Of Physics D-applied Physics雜志簡(jiǎn)介

Journal Of Physics D-applied Physics是由IOP Publishing Ltd.出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊,自1970年創(chuàng)刊以來(lái),一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)(ISSN:0022-3727,E-ISSN:1361-6463),出版周期Weekly,其出版地區(qū)設(shè)在ENGLAND。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, APPLIED學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開(kāi)展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流,為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.0882...,開(kāi)源內(nèi)容占比0.0917,出版撤稿占比0,OA被引用占比0.1061...,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛(ài)好者,這些讀者群體來(lái)自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Journal Of Physics D-applied Physics已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動(dòng)PHYSICS, APPLIED領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore(2024年最新版)

  • CiteScore:6.8
  • SJR:0.681
  • SNIP:0.916
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Acoustics and Ultrasonics Q1 8 / 44

82%

大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 78 / 434

82%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q1 30 / 132

77%

大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q1 65 / 284

77%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估,打破了過(guò)去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過(guò)綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開(kāi)放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo),幫助研究者深入了解超過(guò)22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比

Journal Of Physics D-applied Physics中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū)
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū)
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū)
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖

WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 63 / 179

65.1%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%

JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫(kù),按照期刊的影響因子進(jìn)行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個(gè)區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科,每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 842
2015 839
2016 1107
2017 1253
2018 1109
2019 960
2020 1173
2021 1209
2022 1127
2023 730

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
J PHYS D APPL PHYS 2388
others 1963
PLASMA SOURCES SCI T 1276
J APPL PHYS 1102
MATER RES EXPRESS 925
J MAGN MAGN MATER 792
IEEE T PLASMA SCI 759
J ALLOY COMPD 697
PHYS PLASMAS 665
PHYS REV B 633
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
J PHYS D APPL PHYS 2388
APPL PHYS LETT 2365
PHYS REV B 1983
others 1814
J APPL PHYS 1700
PHYS REV LETT 1316
NANO LETT 757
PLASMA SOURCES SCI T 745
SCI REP-UK 727
SCIENCE 661
若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。

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